Campagne de collecte 15 septembre 2024 – 1 octobre 2024 C'est quoi, la collecte de fonds?

Технология полупроводникового производства

Main
Technique - Experiments, Instruments & Measurements
Технология полупроводникового...

Технология полупроводникового производства

Мокеев, Олег Константинович, Романов, Александр Сергеевич, авт

0 / 0

Avez-vous aimé ce livre?

Quelle est la qualité du fichier téléchargé?

Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité

Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?

В книге описаны основные технологические процессы производства полупроводниковых приборов и микросхем. Рассмотрены процессы изготовления биполярного и МДП-транзисторов, а также интегральных микросхем на их основе.

Catégories:

Technique - Experiments, Instruments & Measurements

Année:

1984

Editeur::

Высш. шк

Langue:

russian

Pages:

177

ISBN 10:

2403000000

ISBN 13:

9782403000009

Collection:

Проф.-техн. образование

Fichier:

DJVU, 5.52 MB

IPFS:

,

russian, 1984

Lire en ligne

La conversion en est effectuée

La conversion en a échoué

Cela peut vous intéresser

Бабушкина Л. Г. — Конструирование и технология производства микросхем

Щербакова, Е. Н. — Технологии нано- и микросистемной техники

Лаврова, Л. К. — Электронное учебно-методическое пособие по учебной дисциплине "Технология и оборудование литографических процессов" для специальности 2-41 01 31 "Микроэлектроника"

Лаврищев В.П. (ред) — Введение в фотолитографию.

Богомазова, Наталья Валентиновна — Технология полупроводников

Кувшинов, А. М. — Основы микро- и наноэлектроники. Конструкция и технология микросхем

Брук В. — Производство полупроводниковых приборов

Мазель Е. — Планарная технология кремниевых приборов

Моряков О. — Вакуумно-термические и термические процессы в полупроводниковом производстве

Курносов А. — Технология производства полупроводниковых приборов

Жигальский А.А. — Проектирование и конструирование интегральных микросхем.

Романовский М.Н. — Интегральные устройства радиоэлектроники. Часть 1. Основные структуры полупроводниковых интегральных схем

Н. В. Жданова — Микроэлектроника: учебное пособие. Специальность 210100.62 – Электроника и наноэлектроника

Пресс Ф.П. — Фотолитографические методы в технологии полупроводниковых приборов и интегральных микросхем

Гаврилов Р.А., Скворцов А.М. — Технология производства полупроводниковых приборов

Блинов И.Г. — Оборудование полупроводникового производства

О. В. Семенова. — Проектирование и технология электронной компонентной базы. Конструирование и технология интегральных схем

Ануфриев Л.П., Бордусов С.В. — Технология интегральной электроники

Ануфриев Л.П., Бордусов С.В. и др. — Технология интегральной электроники

Брук В.А., Гаршенин В.В., Курносов А.И. — Производство полупроводниковых приборов

Романовский М.Н. — Интегральные устройства радиоэлектроники. Часть 1. Основные структуры полупроводниковых интегральных схем

Бахратов А.Р. — Тестовые задачи по технологии микромеханических гироскопов и акселерометров

Лапшинов Б.А. — Технология литографических процессов

— Процессы микро - и нанотехнологии

Знаменская Т.Д. — Лекции по конструкторско-технологическому обеспечению

Джафаров Т.Д. — Дефекты и диффузия в эпитаксиальных структурах

Данилина Т.И., Смирнова К.И. и др. — Процессы Микро и Нанотехнологии

Скоробогатова Л.А., Зубрицкий С.М., Петров А.Л., Семёнов А.Л. — Технологии материалов для микро - и наноэлектроники

Рыжиков И.В. — Лекции по технологии микро-электронных устройств

Данилина Т.И. — Технология тонкопленочных микросхем

Жданова Наталья Владимировна — Микроэлектроника

Филяк М. М. — Конструктивно-технологические основы микроэлектроники

Сост. СП. Зимин — Методы контроля технологических процессов в электронике: Методические указания по выполнению лабораторных работ

сост. О. В. Семенова. — Интегральные устройства радиоэлектроники. Технология микросхем и микропроцессоров

Щербакова, Е. Н. — Технологии нано- и микросистемной техники

Mots Clefs

поверхности

неправильно

подложки

применяют

микросхем

полупроводниковых

правильно

пластины

используют

диффузии

приборов

скорость

поверхность

подложке

называют

фоторезиста

выполняют

температуры

фотошаблона

получения

получают

проводят

результате

травления

изготовления

фотошаблонов

осаждения

подложек

подложка

диоксида

подложку

температуре

изготовление

концентрации

кристалла

процесса